|
|
ÀÎ Àû »ç Ç×
|
À̸§ (ÇѱÛ) |
×Ý** |
»ý³â¿ùÀÏ |
1987-9-21 |
À̸§ (Áß¹®) |
×Ý维ÑÖ |
ÁֹιøÈ£ |
±âº» ºñ°ø°³ |
¼º º° |
¿©(Ò³) |
±¹ Àû |
Áß±¹ |
°ÅÁÖÁö¿ª |
|
»ó¼¼ÁÖ¼Ò |
»êµ¿¼º ûµµ½Ã û¾ç±¸ õżº |
¿¬ ¶ô ó |
¿¬¶ôó¸¦ ¿¶÷ÇÏ·Á¸é ·Î±×ÀÎ ÇÏ¿©¾ßÇÕ´Ï´Ù.¾ÆÁ÷ ÇÏ¿À»êµ¿ ȸ¿øÀÌ ¾Æ´Ï¸é ¹«·áȸ¿ø°¡ÀÔÀ» ÇØÁֽʽÿÀ
|
±âŸ»çÇ× |
°¡Á·°ü°è |
°áÈ¥¿©ºÎ |
Á¾±³ |
Ãë¹Ì
|
0³²2³àÁß 1° |
¹ÌÈ¥ |
|
|
|
¾îÇÐ/ÄÄÇ»ÅÍ |
ÄÄ Ç» ÅÍ |
ÇѱÛ/MS¿öµå [»ó]ÆÄ¿öÆ÷ÀÎÆ® [»ó]¿¢¼¿ [»ó]ÀÎÅͳÝ(Á¤º¸°Ë»ö) [»ó]
|
¾ð¾î ´É·Â |
Çѱ¹¾î [»ó] Áß±¹¾î [»ó]
|
|
Çз»çÇ× |
ÇÐ
·Â |
ÀçÇбⰣ |
Çб³¸í |
Àü°ø |
Á¹¾÷¿©ºÎ |
~ 2006³â |
ÇÒºó½ÃÁ¶¼±Á·Á¦ÀÏ°íµî |
|
Á¹¾÷ |
2006³â ~ 2010³â |
ÇÒºó»ó¾÷´ëÇÐ |
¸¶ÄÏÆà |
Á¹¾÷ |
|
°æ·Â»çÇ× (ÃÑ °æ·Â³â¼ö : 04³â 00°³¿ù) |
ÃÖ
Á¾
°æ
·Â |
-. ±Ù¹«±â°£ : 2010³â~2014³â (Åð»ç)
-. ȸ»ç¸íĪ : iStarWafer Technology Co., Ltd
-. ´ã´ç¾÷¹« : ȸ°è
-. Á÷±Þ :
-. ¿¬ºÀ : À§¿£ ¿ù±Þ |
±â
Ÿ
»ó
¼¼ |
±Ù¹«±â°£:2010/07 -- 2012/06
±Ù¹«È¸»ç:ºÏ°æ FuAi Technology Co., Ltd. (°íüÄܵ§¼capacitor »ý»ê¾÷ü)
Á÷¹«³»¿ª:±¸¸Å°ú°æ¸®
1.ȸ»çÀÇ ¸ðµç ±¸¸Å¾÷¹« °èȹ°ú ½ÇÇà.
2.¿øÀÚÀç ¼öÀÔ°ú ¿ÏÁ¦Ç° ¼öÃâ¾÷¹« ÃÑÃ¥ÀÓ.
3.¼¼¹«£¨关务£©/º¸¼¼£¨ÜÁ税£© ¾÷¹«¿¡ 󸮿¡ ´É¼÷.
±Ù¹«±â°£:2012/06 --ÇöÀç
±Ù¹«È¸»ç:ûµµ iStarWafer Technology Co., Ltd (¿þÀÌÆÛ Sapphire Wafer »ý»ê¾÷ü)
±Ù¹«³»¿ª:ȸ°è
1.¹Ý³â Ãâ³³°æÇè. ȸ»ç ÀüºÎ Ãâ³³¾÷¹« Ã¥ÀÓÁü.
2.ÀºÇà ´ëÃâ¾÷¹«;
3.ERP¸¦ ÀÌ¿ëÇÏ¿© ÀåºÎó¸®; ¼¼±Ý³³ºÎ;¼öÃâ ¼öÀÔ ¾÷¹« ÀåºÎ ó¸®¹× ¼¼±Ýȯ±Þ. |
|
Ãë¾÷Èñ¸Á»çÇ× |
Èñ
¸Á
ȍ
Ç× |
-. Èñ¸Á±Ù¹«Áö1 : »êµ¿¼º > ûµµ
-. Èñ¸Á±Ù¹«Áö2 :
-. Èñ¸Á¿¬ºÀ/¿ù±Þ : 5000À§¿£ (¿ù±Þ)
-. Èñ¸Á°í¿ëÇüÅ : Á¤±ÔÁ÷
-. Èñ¸Á¾÷Á÷Á¾ : ȸ°è/Ãâ³³/À繫 |
|
ÀÚ±â¼Ò°³¼ |
ÀÚ
±â
¼Ò
°³
¼ |
Àú´Â ¹«¾ùÀ̳ª ¿½ÉÈ÷ ÇÏ´Â ¼º°ÝÀ̹ǷΠ¸ðµçÀÏ¿¡ ´©±¸º¸´Ù »¡¸® ´É¼÷ÇØÁú¼ö ÀÖ´Ù°í »ý°¢ÇÕ´Ï´Ù. ±âȸ¸¸ ÁÖ½Ã¸é ¿½ÉÈ÷ ÇÏ°Ú½À´Ï´Ù.
|
|
À§ Á¤º¸´Â °³ÀÎÀÌ Á¦°øÇÑ ÀÚ·áÀ̸ç, ÇÏ¿À»êµ¿Àº ÀÌ·Î ÀÎÇÏ¿© ¹ß»ýµÇ´Â ÀÏ¿¡ ´ëÇÏ¿© Ã¥ÀÓÀ» ÁöÁö ¾Ê½À´Ï´Ù. |
|
|